光電成像技術與系統教育部重點實驗室
英文名稱：Key Laboratory of Photoelectronic Imaging Technology and System(Beijing Institute of Technology), Ministry of Education
簡介：
光電成像技術與系統教育部重點實驗室于2008年批準設立，2011年通過驗收。
該重點實驗室依托“光學工程”國家一級重點學科，具有悠久的學科歷史和積累，為國民經濟和國防事業的發展做出過重要的貢獻，在國內外具有較高的學術影響和學術地位。
重點實驗室建設目標為建立光電成像新理論和關鍵技術研究及其高層次人才培養的基地，在超常規光電成像信息(超低照度/超寬波段/超空間分辨/超光譜分辨/超時間分辨/超高靈敏/超微細/超視覺顯示等)的獲取、處理與融合技術與系統應用方面開拓新的理論與技術領域。
研究方向包括：（1）新型極微弱光探測成像理論、技術與系統；（2）寬波段紅外、紫外探測成像理論、技術與系統；（3）高分辨光刻成像及性能檢測技術；（4）新型光電成像處理技術與系統應用。
構建了一支以中國工程院院士周立偉教授為首席科學家、教育部長江特聘教授、博士生導師與中青年骨干教師為中堅力量、學術水平高、治學嚴謹、思想活躍、實力雄厚、結構合理、老中青結合的學術梯隊。
每年招收約30名博士和90名碩士研究生，接收博士后及訪問學者約3～5名。
聯系人：高昆；聯系電話：68912560
